光刻方法.pdf

  1. 类别:专利
  2. 上传人:wuyuzegang
  3. 上传时间:2023/4/19 20:45:38
  4. 文件大小:1271K
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简介:

在校准沉浸光刻设备的重叠性能时,使用正常且相反的曲折路径进行曝光得到两组重叠数据。然后使用这两组重叠数据消除由于晶片冷却造成的影响。

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