激光辐射方法和使用其方法制造半导体装置的方法.pdf

  1. 类别:专利
  2. 上传人:wuyuzegang
  3. 上传时间:2023/4/22 11:29:20
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简介:

本发明提供一种激光辐射方法,用于即使被辐射物的厚度不均匀也能够对被辐射物进行均匀的激光辐射。在对具有不均匀厚度的被辐射物进行辐射的情况下,通过使用自动聚焦机构,可以在执行激光辐射的同时使被辐射物和透镜之间的距离保持不变,其中该透镜用于使激光束在被辐射物的表面上聚光。特别是,在用激光束对被辐射物进行辐射时,通过沿被辐射物上形成的光斑的第一方向和第二方向相对于激光束移动该被辐射物,在被辐射物沿第一和第二方向移动被辐射物之前,由自动聚焦机构控制被辐射物和透镜之间的距离。

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