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锤子
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极紫外(EUV)掩模基底制造系统包括:用于建立真空的基板操作真空腔室;位于真空中的基板操作平台,以用于搬运装载于该基板操作真空腔室中的超低膨胀基板;及可让该基板操作平台进出且用于形成EUV掩模基底的多个子腔室,该多个腔室包括:第一子腔室,该第一子腔室在超低膨胀基板上形成多层堆叠,以用于反射极紫外(EUV)光;及第二子腔室,该第二子腔室用于在该多层堆叠上形成双层式吸收剂,该双层式吸收剂用于吸收波长13.5纳米的EUV光以提供小于1.9%的反射率。
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