等离子体原子层刻蚀实现无损伤刻蚀

2019/08/07   下载量： 1 次

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应用领域 半导体
检测样本 其他
检测项目
参考标准 无

提供等离子体原子层刻蚀实现无损伤刻蚀。原子层蚀刻（ALE）是一种技术允许每次精确除去一个原子层，是使用常规刻蚀无法达到的控制水平。 牛津仪器的设备和工艺已通过充分验证，正常运转时间可达90%以上，一旦设备安装完毕，可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广，包括但不限于： MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。它具有足够的灵活性，可用于研究和开发，通过打造质量满足生产需求。

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原子层蚀刻（ALE）是一种技术允许每次精确除去一个原子层，是使用常规刻蚀无法达到的控制水平。 牛津仪器的设备和工艺已通过充分验证，正常运转时间可达90%以上，一旦设备安装完毕，可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广，包括但不限于： MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。它具有足够的灵活性，可用于研究和开发，通过打造质量满足生产需求。

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牛津仪器科技（上海）有限公司
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