牛津仪器PlasmaPro100 ALE原子层刻蚀
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牛津仪器PlasmaPro100 ALE原子层刻蚀

参考价：面议
型号： PlasmaPro100 ALE
产地： 英国
品牌： 牛津仪器
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牛津仪器科技（上海）有限公司
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我们的设备和工艺已通过充分验证，正常运转时间可达90%以上，一旦设备安装完毕，可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广，包括但不限于： MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。它具有足够的灵活性，可用于研究和开发，通过打造质量满足生产需求。


PlasmaPro 100 ALE 的特点:

  • 准确的刻蚀深度控制；

  • 光滑的刻蚀表面

  • 低损伤工艺

  • 数字化/循环式刻蚀工艺——刻蚀相当于ALD

  • 高选择比

  • 能加工最大200mm的晶圆

  • 高深宽比（HAR）刻蚀工艺

  • 非常适于刻蚀纳米级薄层

  • III-V族材料刻蚀工艺

  • 固体激光器InP刻蚀

  • VCSEL GaAs/AlGaAs刻蚀

  • 射频器件低损伤GaN刻蚀

  • 硅Bosch和超低温刻蚀工艺

  • 类金刚石（DLC）沉积

  • 二氧化硅和石英刻蚀

  • 用特殊配置的PlasmaPro FA设备进行失效分析的干法刻蚀解剖逆工艺，可处理封装好的芯片, 裸晶片，以及200mm晶圆

  • 高质量PECVD沉积的氮化硅和二氧化硅，用于光子学、电介质层、钝化以及诸多其它用途

  • 用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀


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