方案摘要
方案下载应用领域 | 半导体 |
检测样本 | 集成电路 |
检测项目 | 化学性质>元素分析 |
参考标准 | - |
使用 Agilent 8900 半导体配置 ICP-MS/MS,成功测定了半导体级 H2SO4 中超痕量水平下的 42 种元素。1/10 稀释的 H2SO4 中,20 ppt 水平(Si 为 2 ppb)下的所有元素均获得了优异的加标回收率,证明8900 ICP-MS/MS 方法适用于高纯度工艺化学品的常规分析。 使用 ICP-MS/MS 在 MS/MS 模式下采用适当反应池气体条件,避免了质谱干扰问题的出现,这些干扰会阻碍 ICP-QMS 对某些关键元素的测量。8900 ICP-MS/MS 的轴向加速功能明显提高了测定 Ti、Zn 和 P 等原子所需的子离子灵敏度。9.8% H2SO4中的几乎所有分析物均获得了亚 ppt 级 DL 和 BEC。
使用 Agilent 8900 半导体配置 ICP-MS/MS,成功测定了半导体级 H2SO4 中超痕量水平下的 42 种元素。1/10 稀释的 H2SO4 中,20 ppt 水平(Si 为 2 ppb)下的所有元素均获得了优异的加标回收率,证明8900 ICP-MS/MS 方法适用于高纯度工艺化学品的常规分析。
使用 ICP-MS/MS 在 MS/MS 模式下采用适当反应池气体条件,避免了质谱干扰问题的出现,这些干扰会阻碍 ICP-QMS 对某些关键元素的测量。8900 ICP-MS/MS 的轴向加速功能明显提高了测定 Ti、Zn 和 P 等原子所需的子离子灵敏度。9.8% H2SO4中的几乎所有分析物均获得了亚 ppt 级 DL 和 BEC。
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