原子层沉积系统（ALD）R-200 Standard

报价：¥100万 - 200万

核心参数

产品详情

PICOSUN® R-200标准型ALD系统适用于数十种应用领域的研发，如IC组件、MEMS器件、显示器、LEDs、激光器，以及3D物品，如透镜、光学器件、首饰、硬币和医用植入物。

底尺寸和类型	50 – 200 mm /单片 156 mm x 156 mm 太阳能硅片 3D 复杂表面衬底（使用Showerhead喷洒淋浴模式效果更佳）粉末与颗粒（配备扩散增强器）多孔，通孔，高深宽比（HAR）样品
工艺温度	50 – 500 °C, 450 °C（加等离子）
基片传送选件	气动升降（手动装载）预真空室安装磁力操作机械手（Load lock ）
前驱体	液态、固态、气态、臭氧源、等离子体 6根独立源管线，最多加载12个前驱体源（加上plasma管路共7根独立源管线）
重量	350kg
尺寸（ W x H x D)）	146 cm x 146 cm x 84 cm（小） 189 cm x 206 cm x 111 cm（大）
选件	PICOFLOW™扩散增强器，集成椭偏仪，QCM， RGA，N2发生器，尾气处理器，定制设计，手套箱集成（用于惰性气体下装载）。
工艺	Al2O3, TiO2, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, ZrO2,AlN, TiN，金属如Pt或Ir

售后服务

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