光学表面缺陷分析仪

产品信息
Lumina AT1光学表面缺陷分析仪，创新的激光扫描设备能检测薄到0.5nm的 薄膜缺陷。可对玻漓、半导体及光电子材料进行表面检测。既能够检测SiC、GaN、蓝宝石和玻璃等透明材料，又能对Si、砷化镓、磷化铟等不透阴基板进行检测，研发及生产过程中品质管理及良率改善的有力工具。

产品优势：
1、实用：可用于易碎和超薄的样品；
2、通用：扫描任何形状平面样品≤300mm*300mm；
3、快速：3分钟全表面扫描150mm芯片；
4、灵活：可用于透明（玻璃）、半导体和金属基底；
5、灵敏：半导体愚亨70nm颗粒灵敏度(PSL)，坡璃－150nm颗粒灵敏度(PSL)；
6、方便：放置样品，按扫描键；

AT系列共有4种型号：AT1、ATI-Auto、AT2、AT2-EFEM，这4种型号适用场景如下：
AT1：高性价比，适用于尺寸较小样品；
AT1-Auto：AT1自动款，适用于批量检测；
AT2：高速率检测，适用于尺寸较大样品；
AT2-EFEM：适用于生产线；

AT系列基本功能：
1、全表面扫描
Lumina AT系列结合椭圆偏光、反射测量、表面斜率与散射测量等基本原理，以非破环性方式对Wafer表面的残留异吻，表面与表面下缺陷，形状变化和薄膜厚度的均匀性进行检测。
2、缺陷分析
软件可以给缺陷分类，以直观易用的方各式提供缺陷数据。检测报告可以存档成.csv文件。
3、缺陷位置标记
用可选附件钻石刀标明重要的缺陷位置以方便进—步分析（比如扫描电镜等）。

AT系列独特功能：
1、多通道，高信噪比
LuminaAT系到由四个检测通道组成的检测系统组成。四个通道同时工作， 每个通道分别对特定的缺陷进行检测和分类。
2、可根据激光入射角厚度和反射率， 通过计算分辨出缺陷是否在上表面、下表面或者中间层。
3、可适用于各种形状及厚度的样品。
Lumina设备样品台由主支撑针和固定针组成， 通过两组针来固定样品， 适用于各种形状和厚度的样品。

技术指标

1、ATX系列内部AT1与AT2技术指标对比如下：

2、LuminaAT系列与传统的缺陷检测设备相比， 具有更高的灵敏度和适用性， 可以同时检测上表面和下表面的缺陷。同时， 具有更高的检测速度， 可以在很短的时间内对样品进行全表面扫描， 可极大的减轻人工检测的压力。

应用领域

1、透明样品
AR/VR眼镜、特制镜片、掩光板、方形玻璃、菲涅尔透镜、蓝宝石、大玻璃面板、石英
2、半导体
单晶硅片、复合半导体晶片、碳化硅、砷化镓、铌酸锂、氮化镓

应用示例
a、玻璃及透明基底
有机残留、外部划痕、内部划痕、内外部颗粒、残留应力
b、AR波导光栅
Lumina AT系列可以检测AR光栅上表面和下表面颗粒物划痕、颗粒、气泡、污渍等缺陷，从而对光栅性能做出评估或者对工艺改进提倛参考。
c、棱镜
表面污渍定位、表面划痕定位、表面颗粒定位
d、碳化硅
碳化硅为第三代半导体的代表材料， 具有高能量间隙、热导率、饱和漂移速度等优点，广泛应用千照明、光伏逆变器、充电桩等行业。Lumina AT系列可以分辨出碳化硅表面的各种缺陷， 为碳化硅生产和二艺的改进提供有力保障。
e、硅片
薄膜缺陷、芯片边缘污染、线性缺陷、陷坑、低洼、鼓包、刻蚀深度