Picosun原子层沉积系统（ALD) P-1000 Pro_价格-北京正通远恒科技有限公司

核心参数

产地类别：进口
衬底尺寸： 156 mm x 156 mm硅片800～1000片/批次（双面/背对背）高达400 mm x 600 mm玻璃基板30～50片/批次（双面/背对背）大批量的3D产品（例如：钟表部件，珠宝，硬币，医疗植入部件，机械部件等）多孔，通孔，高深宽比（HAR）样品
工艺温度： 50 - 500 °C , 可选更高温度
前驱体数：液态、固态、气态、臭氧源前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务 8根独立源管线，最多加载12个前驱体源
重量： 2000 kg
尺寸(W x H x D)： 230 cm x 270 cm x 125 cm
均匀性：大于99%

产品详情

PICOSUN™ P系列量产ALD系统定义了高产量ALD的新时代。我们全自动化、真空集群与产线兼容的P系列ALD确保了最大的产出效率，并且具有世界级的工艺纯度和薄膜均匀性，甚至能完全满足具有最严格要求的半导体行业标准。PICOSUN™ P系列ALD高效紧凑的设计节约了昂贵的场地成本，系统的易维护性减少了停工期。ALD技术可以覆盖各种形状、各种表面的样品，可以覆盖最细小的地方，最难到达的地方。具有高度的保形性、均一性及100%无针孔。这使得ALD可以应用于各种行业里，实现各种表面的保护。ALD薄膜可以附着在各种表面上，例如金属，玻璃，塑料，乃至纤维及粉末。作为气相、低温的沉积技术，ALD薄膜可以生长在非常敏感的表面上，例如聚合物薄膜。

Picosun的ALD技术应用在钟表部件、珠宝、硬币上进行防着色，防腐蚀的装饰涂层。在生物植入医疗部件上的生物兼容、生物活性涂层。致密、惰性、密封、弹性、透明的ALD薄膜技术挑战传统的膜生长方式。在PCB防腐蚀保护、防摩损等领域，ALD层大大提升了部件的质量、可靠性及寿命。

ALD工业领域及应用
产品	ALD应用
医疗植入（牙科，连接技术）手术固定器	植物活性层，用来提高骨融合，生物兼容的包覆层
植入医疗器件（心脏起搏器，耳蜗植入）	生物兼容包覆层
收藏性硬币	防着色涂层
钟表部件	防着色层或装饰层
珠宝	防着色层或装饰层
PCB	防锡晶须及腐蚀

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售后服务

产品货期： 90天
培训服务：安装调试现场免费培训
维修响应时间： 2天内

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北京正通远恒科技有限公司为您提供Picosun原子层沉积系统（ALD) P-1000 Pro，PicosunP-1000 Pro产地为芬兰，属于进口原子层沉积设备，除了原子层沉积系统（ALD) P-1000 Pro的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供更多原子层沉积设备,北京正通远恒客服电话400-860-5168转0338，售前、售后均可联系。

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型号：	P-1000 Pro
产地：	芬兰
品牌：	Picosun
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