“UFS”: a patented key development for GDOES by HORIBA Scientific

2016-08-12 16:35 下载量：10

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UFS专利技术可对聚合物分子层进行超快速溅射，不仅增强了信噪比而且能够在超高深度分辨率下测试包埋在厚聚合物下的镀层。

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