方案摘要
方案下载应用领域 | 半导体 |
检测样本 | 光电器件 |
检测项目 | |
参考标准 | 无 |
XPS 一般用于分析材料表面、薄膜材料和一些界面材料的元素信息。该技术无需外部校准便可得到量化的结果,很少需要或无需样品制备。XPS的应用十分广泛,包含教学研究、工业研发和第三方实验室的质量监测和控制等等。
关于 X射线光电子能谱(XPS) 的一些简单描述:
• 测量表面以下 5 –10 nm 的元素信息
• 对 Li 及以上的元素进行成分定性及价态分析
• 可进一步得到定量的化学信息
• 测量的极限 ~ 0.1 at%
• 角分辨ARXPS可以对薄层材料进行元素成分的深度剖析
• 成像模式分析样品表层元素的组成分布及化学价态分布
XPS 一般用于分析材料表面、薄膜材料和一些界面材料的元素信息。该技术无需外部校准便可得到量化的结果,很少需要或无需样品制备。XPS的应用十分广泛,包含教学研究、工业研发和第三方实验室的质量监测和控制等等。这些领域的应用包括:
• 分析样品表面的污染情况
• 薄膜材料和样品表面氧化层的厚度测量
• 表征材料表面的杂质、染色、变色情况
• 表面制备、清洗的效果分析
• 粉末和纤维材料的成分分析
• 等离子体改性聚合物材料的化学特性
• 涂层厚度的测量和合格检测
• 对多层材料和界面材料进行深度剖析测量
浑然一体的ChemiSEM技术:集成式扫描电镜成像与 X 射线能谱解决方案
小束斑+特色SnapMap快照成像功能分析SnOx成分半导体器件
使用自动化颗粒工作流程,进行金属中的析出相分析
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