微波等离子体增强化学气相沉积系统(MPECVD)

仪器简介：
Woosin公司生产的MPECVD为一高效微波等离子体制备设备，可用于生长金刚石薄膜、碳纳米管、氮化硅、碳化硅等超硬膜，具有生长速度快、制备温度低、性价比高等优点，已有韩国、中国(含香港地区)等许多大学与研究机构使用。

      应用领域：
              1) Si3N4；
              2) SiO2；
              3) cubic BN or cBN；
              4) SiC；
              5) C3N4；
              6) nano-crystalline diamonds or nc-diamonds； 
              7) diamond-like-carbon or DCL；
              8) micro-crystalline silicon or m-silicon；
              9) hexagonal BN or hBN；
             10) carbon nanotubes or CNTs；
             11) carbon nano-fibers or CNFs；
             12) highly-oriented diamonds or HODs.

技术参数：
MWPECVD-RX:
1. DC Plasma CVD, RF Plasma CVD,Microwave Plsma CVD
2. Atmospheric Microwave Plasma Source
3. Large diameter(6")
4. Max. 6" Sample
5. Upto 900℃ heating
6. Double-wall, Stainless Steel Reaction Chamber
7. 2KW microwave power generator(standard)

主要特点：
1.Diamond/CNT Growing
2.400mm OD Stainless Steel Chamber
3.4 inch Substrate for Diamond
4.6 inch Substrate for remote operation
5.RF/DC Plasma option

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