仪器简介:
Nanosis-610是NDD公司和美国斯坦福大学联合研制的最新纳米压印设备。纳米压印(NIL,Nano Imprint)是一种纳米微制造技术,利用该技术,可以将由电子束光刻(e-Beam Lithiography)或聚焦离子束(FIB)技术制备的模具的纳米结构通过“印章”的办法转移到高分子基底上。纳米压印技术非常重要,产生的压力必须均匀、统一。纳米压印技术应用领域非常宽广,比较典型的应用包括:OLED(有机电致发光二极管)、微流体染料激光器、有机薄膜晶体管(OTFTs)、亚波长光学元器件、Si晶片、塑料以及高分子材料等的纳米微制造。
技术参数:
1.晶片尺寸:6英寸
2.加工方法:紫外线和加热
3.系统控制:PLC控制全部自动化
4.压印程序:全部自动化
5.紫外灯类型:Hg-Xe
主要特点:
1.NANOSIS 620可以很方便的将复杂的结构图案进行完全的转移
2.全部自动化(除了安装和拆卸样品)
3.加工效率很高
仕嘉科技(北京)有限公司为您提供纳米压印系统(Nano-Imprint)Nanosis-620,nullNanosis-620产地为其他国家,属于其他,除了纳米压印系统(Nano-Imprint)的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多其他,仕嘉科技客服电话,售前、售后均可联系。