仪器简介:
美国NANOMASTER公司提供高性能反应离子刻蚀系统,能够满足多种金属和非金属刻蚀的需要。该系统可以选用RF、空阴极等离子体、感应耦合等离子体(ICP)和微波等离子体源来满足不同材料刻蚀的需要。
技术参数:
控制: PC控制(Lab View)
腔: 13寸铝质
基座托: 13℃水冷 -120℃低温制冷
气体供应:喷头,MFC,SS管路 气体环
等离子源:RF平板,P-100空阴极,感应耦合等离子源(ICP)
直流偏压:-500V自偏压、-1000V偏压
基本真空 E-6Torr-E-7Torr
工艺压力 0.02-8Torr、0.001Torr以上
射频电源 600W,1000W,2000W选项
真空泵 200L/sec耐腐蚀涡轮泵、500L/sec耐腐蚀涡轮泵
电源 110/220V 三相电,40/20A
主要特点:
NRE-3000 桌面式反应离子刻蚀系统
NRE-4000 立式反应离子刻蚀系统
NRP-4000 反应离子刻蚀(RIE)和PECVD双系统
NDR-4000 深反应离子刻蚀系统
详细信息请联系我们仕嘉科技(北京)有限公司为您提供反应离子刻蚀NRE3000 NRE4000 NRP4000 NDR4000,nullNRE3000 NRE4000 NRP4000 NDR4000产地为美国,属于其他,除了反应离子刻蚀的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多其他,仕嘉科技客服电话,售前、售后均可联系。