上海伯东美国考夫曼霍尔离子源于离子刻蚀 (IBE) 应用EH200

产品详情

上海伯东美国考夫曼霍尔离子源于离子刻蚀 (IBE) 应用 Kaufman & Robinson,Inc (KRi) End Hall

上海伯东为美国考夫曼公司离子源离子枪 Kaufman & Robinson, Inc (KRi) 大中华总代理.美国霍尔离子源离子枪 EH200, EH400, EH1000, EH200, EH3000 系列不仅广泛应用于生产单位,且因离子抨击能量强, 蚀刻效率快, 可因应多种基材特性,单次使用长久, 耗材成本极低, 操作简易, 安装简易, 所以美国考夫曼霍尔离子源目前广泛应用于许多蚀刻制程及基板前处理制程.

客户案例: 国内某大学天文学系小尺寸刻蚀设备

1. 系统功能: 对于 Fe, Se, Te , PCCO及多项材料刻蚀工艺.

2. 样品尺寸: 2吋硅芯片.

3. 实际安装:

刻蚀设备: 小型刻蚀设备. 选用上海伯东美国考夫曼霍尔离子源 EH400HC

P1090003 P1090004

离子源 EH400HC 安装于刻蚀腔体内.

P1090002 P1090001

离子源 EH400HC 控制单元操作离子源 EH400HC 实际点燃 (氩气)

P1120015 P1120016

对于 FeSeTe 刻蚀应用, 离子源 EH400HC 条件: 110V/1.5A, 刻蚀速率 >20 A/Sec

对于 FeSeTe 刻蚀应用, 离子源 EH400HC 条件: 110V/1.5A, 刻蚀速率 >17 ?/Sec

霍尔离子源 EH400HC 优点:

- 高离子浓度 (High density), 低能量(Low energy)

- 离子束涵盖面积广 (high ion beam sharp)

- 镀膜均匀性佳

- 提高镀膜品质

- 模块化设计, 保养快速方便

- 增加光学膜后折射率 (Optical index)

- 全自动控制设计, 超做简易

- 低耗材成本,安装简易

KRI离子源简介：
美国考夫曼公司离子源离子枪发明人 Dr. Kaufman 考夫曼博士将此授权 VEECO 生产.于1978年考夫曼博士在美国自行创立 Kaufman & Robinson, Inc. (KRi) 美国考夫曼公司, 历经40年离子源离子枪之改良及研发,目前已在光学镀膜 (Optical coating), IBAD (离子源助镀), IBSD (离子溅镀), IBE (离子刻蚀), DD(离子镀膜)等等应用大量使用.上海伯东为美国考夫曼公司离子源 离子枪 Kaufman & Robinson, Inc (KRi) 中国总代理

上海伯东主要经营产品德国 Pfeiffer涡轮分子泵, 干式真空泵, 罗茨真空泵, 旋片真空泵; 应用于各种条件下的真空测量(真空计, 真空规管);氦质谱检漏仪；质谱分析仪；真空系统以及 Cryopump 冷凝泵/低温泵, HVA 真空阀门, Polycold 冷冻机和美国KRI Kaufman 考夫曼离子源离子枪

若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请登录我们网站或与市场部罗女士联系。

伯东公司德国普发真空pfeiffer为您提供上海伯东美国考夫曼霍尔离子源于离子刻蚀 (IBE) 应用EH200，考夫曼EH200产地为美国，属于其它行业专用，除了上海伯东美国考夫曼霍尔离子源于离子刻蚀 (IBE) 应用的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供null,上海伯东客服电话400-860-5168转0727，售前、售后均可联系。

问商家

考夫曼其它行业专用EH200的工作原理介绍其它行业专用EH200的使用方法?考夫曼EH200多少钱一台?其它行业专用EH200可以检测什么？其它行业专用EH200使用的注意事项？考夫曼EH200的说明书有吗？考夫曼其它行业专用EH200的操作规程有吗？考夫曼其它行业专用EH200报价含票含运吗？考夫曼EH200有现货吗？

售后服务

产品货期： 365天
培训服务：提供付费培训

型号：	EH200
产地：	美国
品牌：	考夫曼
评分：