考夫曼上海伯东美国 KRi 霍尔离子源 eH 3000_价格-伯东公司德国普发真空pfeiffer

上海伯东美国 KRi 霍尔离子源 eH 3000

参考价：面议

型号：

eH 3000

产地：

美国

品牌：

考夫曼

评分：

应用领域：

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产品详情

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准

KRI 霍尔离子源 eH 3000
上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH 3000 最适合大型真空系统, 与友厂大功率离子源对比, eH 3000 是目前市场上最高效, 提供最高离子束流的离子源.
尺寸: 直径= 9.7“ 高= 6”
放电电压 / 电流: 50-300V / 20A
操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体

KRI 霍尔离子源 eH 3000 特性
• 水冷 - 加速冷却
• 可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时,限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极
• 宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率
• 多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便
• 高效的等离子转换和稳定的功率控制

KRI 霍尔离子源 eH 3000 技术参数

型号	eH3000 / eH3000L / eH3000M / eH3000LE
供电	DC magnetic confinement
- 电压	50-250V VDC
- 离子源直径	~ 7 cm
- 阳极结构	模块化
电源控制	eHx-25020A
配置	-
- 阴极中和器	Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode
- 离子束发散角度	> 45° (hwhm)
- 阳极	标准或 Grooved
- 水冷	前板水冷
- 底座	移动或快接法兰
- 高度	4.0'
- 直径	5.7'
- 加工材料	金属电介质半导体
- 工艺气体	Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors
- 安装距离	16-45”
- 自动控制	控制4种气体

* 可选: 可调角度的支架;

KRI 霍尔离子源 eH 3000 应用领域
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜 ( 光学镀膜 ) IBAD
表面改性, 激活 SM
直接沉积 DD

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行业应用

美国 KRi 霍尔离子源辅助镀膜 IBAD 应用

半导体 2023/03/28

售后服务

产品货期： 365天
培训服务：提供付费培训