上海伯东 KRI 大尺寸射频离子源应用于 12英寸和8英寸金属蚀刻机中

伯东公司德国普发真空pfeiffer

2022/03/16 08:55

上海伯东 KRI 射频离子源应用于 12英寸和8英寸金属蚀刻机中
上海伯东代理美国考夫曼 KRI 大口径射频离子源 RFICP 220, RFICP 380 成功应用于 12英寸和 8英寸磁存储器刻蚀机, 8英寸量产型金属刻蚀机中, 实现 8英寸 IC 制造中的 Al, W 刻蚀工艺, 适用于 IC, 微电子,光电子, MEMS 等领域.

作为蚀刻机的核心部件, KRI 射频离子源提供高能量, 低浓度的离子束, 单次工艺时间更长, 满足各种材料刻蚀需求! 实现刻蚀过渡金属及非挥发性金属的需求, 可处理晶圆尺寸 300 mm, 适用于磁性存储器 MRAM 及磁传感器的研发及生产.
离子源安装于金属蚀刻机
KRI 射频离子源 RFICP 220, RFICP 380 技术参数:

型号	RFICP 220	RFICP 380
Discharge 阳极	RF 射频	RF 射频
离子束流	>800 mA	>1500 mA
离子动能	100-1200 V	100-1200 V
栅极直径	20 cm Φ	38 cm Φ 大口径射频离子源
离子束	聚焦, 平行, 散射
流量	10-40 sccm	5-50 sccm
通气	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr
长度	30 cm	39 cm
直径	41 cm	59 cm
中和器	LFN 2000

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

鉴于客户信息保密, 若您需要进一步的了解离子源或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东：叶女士台湾伯东：王女士
T: +86-21-5046-3511 ext 109 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 1391-883-7267 ( 微信同号 ) M: +886-939-653-958
qq:2821409400
现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东叶女士 1391-883-7267
上海伯东版权所有, 翻拷必究！

阅读17次

关注

上一篇细胞培养耗材为什么需要 TC 表面处理

下一篇考夫曼离子源创始人 Dr. Harold Kaufman