氧化物薄膜具有优越的机械、光学性能以及良好的环境稳定性, 被广泛应用于可见近红外波段制备各种低损耗光学薄膜.
某国内精密光学薄膜制造商为了获得品质良好的Al2O3 薄膜, 采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 FRICP380 和考夫曼离子源 KDC100 辅助溅射镀制 Al2O3 薄膜.
伯东 KRI 射频离子源 RFICP380 技术参数:
射频离子源型号 | RFICP380 |
Discharge 阳极 | 射频 RFICP |
离子束流 | >1500 mA |
离子动能 | 100-1200 V |
栅极直径 | 30 cm Φ |
离子束 | 聚焦, 平行, 散射 |
流量 | 15-50 sccm |
通气 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型压力 | < 0.5m Torr |
长度 | 39 cm |
直径 | 59 cm |
中和器 | LFN 2000 |
工艺简介:
该制造商采用双离子辅助镀制 Al2O3 薄膜, 其中一个离子源(KRI 考夫曼射频离子源 FRICP380)主要是用于产生高能氩离子束轰击靶材, 通过动量传递使靶材原子获得足够的动能而脱离靶材表面, 射向基板, 在基板的上沉积而形成一层薄膜;
另一个辅助离子源(KRI 考夫曼离子源 KDC100)通入氧气和氩气的混合气体, 通过对生长中的薄膜的轰击, 使得薄膜进一步致密, 同时改善薄膜的化学计量比.
伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 100 技术参数:
离子源型号 | |
Discharge | DC 热离子 |
离子束流 | >400 mA |
离子动能 | 100-1200 V |
栅极直径 | 12 cm Φ |
离子束 | 聚焦, 平行, 散射 |
流量 | 2-20 sccm |
通气 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型压力 | < 0.5m Torr |
长度 | 23.5 cm |
直径 | 19.4 cm |
中和器 | 灯丝 |
* 可选: 可调角度的支架
其工作示意图如下:
运行结果:
1. 制备的薄膜在中红外波段具有高的折射率和低的消光系数, 光滑的表面特性和极低的表面散射耗损, 在2.7μm波段没有发现由于水吸收导致的消光系数的增大;
2. 制备的反射膜在2.7 μm反射率达到了99.63%, 接近于理论计算值;
3. 镀制的Al2O3 薄膜具有优良的环境稳定性.
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