某大型工业薄膜制造商采用伯东 KRI 无栅霍尔离子源 eH 3000 辅助热蒸发技术镀制高质量光学薄膜, 以获得良好的机械性能和光学特性的薄膜, 同时获得与基体牢固结合和优良性能的高质量薄膜.
其工作系统如下图:
KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000最适合大型真空系统, 与友厂大功率离子源对比, eH 3000 是目前市场上最高效, 提供最高离子束流的离子源.
KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000 技术参数:
离子源型号
| eH3000 |
Cathode/Neutralizer | HC |
电压 | 50-250V |
电流 | 20A |
散射角度 | >45 |
可充气体 | Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others |
气体流量 | 5-100sccm |
高度 | 6.0“ |
直径 | 9.7“ |
水冷 | 可选 |
F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current
该制造商的离子源辅助镀膜系统由霍尔离子源, 电源及控制系统和质量流量计 3 部分组成, 如下图:
其中霍尔离子源发射离子, 质量流量计向离子源提供气体并保证气流稳定, 电源及控制系统向离子源供电并保证放电参数放电电压及电流稳定.
KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000 运行结果:
1. 适用工业规模生产
2. 获得良好的机械性能和光学特性的薄膜
3. 获得与基体牢固结合和优良性能的高质量薄膜
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