为了解决飞秒激光加工硬质材料所带来的表面质量差的问题, 国内某制造商用伯东聚焦型射频离子源 RFICP 380 辅助飞秒激光加工技术对碳化硅微纳结构表面进行刻蚀.
射频离子源型号 | RFICP 380 |
Discharge 阳极 | 射频 RFICP |
离子束流 | >1500 mA |
离子动能 | 100-1200 V |
栅极直径 | 30 cm Φ |
离子束 | 聚焦 |
流量 | 15-50 sccm |
通气 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型压力 | < 0.5m Torr |
长度 | 39 cm |
直径 | 59 cm |
中和器 | LFN 2000 |
推荐理由:
使用 KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380可以准确、灵活地对样品选定的区域进行刻蚀、减薄.
工艺简介:
在碳化硅表面制备微纳结构图形, 然后通过 KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380 对碳化硅微纳结构进行刻蚀, 以调控结构的线宽和深度.
运行结果:
1. 结构表面粗糙度由约 106nm 降低到 11.8nm
2. 碳化硅线条结构周围的毛刺基本消失, 线条结构表面的粗糙度得到显著改善, 降低结构表面的粗糙度实现高平滑度微光学元件的制备
3. 通过 KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380 碳化硅菲涅尔波带片展现出良好的聚焦和成像效果
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