某国内 3D玻璃制造商采用伯东 KRI 聚焦射频离子源 RFICP 220 辅助磁控溅射镀制 3D 玻璃膜, 以获取高品质 3D玻璃膜.
其磁控溅射镀膜工艺流程如下图:
磁控溅射镀膜原理:
电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞, 电离出大量的氩离子和电子, 电子飞向基片. 氩离子在电场的作用下加速轰击靶材, 溅射出大量的靶材原子, 呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜.
离子源型号 | RFICP 220 |
Discharge | RFICP 射频 |
离子束流 | >800 mA |
离子动能 | 100-1200 V |
栅极直径 | 20 cm Φ |
离子束 | 聚焦 |
流量 | 10-40 sccm |
通气 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型压力 | < 0.5m Torr |
长度 | 30 cm |
直径 | 41 cm |
中和器 | LFN 2000 |
运行结果:
使用伯东KRI 聚焦射频离子源 RFICP 220 辅助磁控溅射镀制 3D 玻璃膜, 保证镀膜的质量, 所生产出的陶瓷手机盖板镀膜无论是环境脱膜测试, 耐刮测试, 膜层应力测试等等… 都优于目前一般业界蒸镀机所搭配的离子源, 提高生产率.
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