分子泵应用于 LED 芯片退火合金炉

伯东公司德国普发真空pfeiffer

2023/08/09 10:19

分子泵应用于 LED 芯片退火合金炉
LED 芯片退火合金炉属于真空炉的一种, 需要在真空环境下实现 LED 芯片的退火, 合金, 湿氧氧化, 欧姆电极烧结等工艺. 腔体真空度一般在 10^-3 至 10^-6 hPa 之间, 上海伯东德国 Pfeiffer 分子泵凭借大抽速,高稳定性广泛应用于退火合金炉设备.

分子泵在真空炉中的作用
在真空炉中, 工件受到加热, 真空泵负责产生低含氧量的气体环境. 这可防止工件氧化. 取决于真空炉类型, 真空的效用可能各不相同. 在真空烧结中, 真空可改善工件的表面质量和实现脱粘工艺; 在真空钎焊中, 真空可产生脱气效果, 从而提高焊缝的硬度和质量; 在真空硬化中, 真空可防止变形, 由此同样可改善表面质量. 此工艺的另一项优点, 是可以在硬化过程之后直接氮化. 对于每种工艺, 都有必要在定义的时间内达到工艺压力. 上海伯东德国 Pfeiffer 分子泵短抽空时间可以由此提高企业产能, 同时抽空过程还有去除不希望物质（例如氢）这一重要作用.

推荐分子泵型号:
上海伯东 Pfeiffer 分子泵抽速 10-1900 l/s, 高气流量, 高抽速, 占用空间小, 方便系统集成.

型号	HiPace 300	HiPace 700	HiPace 2300
进气口	DN 100 ISO-K DN 100 CF-F DN 100 ISO-F	DN 160 ISO-K DN 160 CF-F DN 160 ISO-F	DN 250 ISO-K DN 250 ISO-F DN 250 CF-F
氮气抽速 l/s	260	685	1900
最大极限真空度 hPa	＜5X10-10	＜5X10-10	＜5X10-10
电压 ± 5 %, VDC	24	48	90-265
噪音 dB(A)	≤50	≤50	≤50
转速 RPM ± 2 %	60000	49200	31500
最大预抽真空 hPa	15-22	11	1.8
重量 kg	5.8-8.7	10.6-16.5	35.5-51.8

上海伯东德国 Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace 系列获得 Semi S2, UL, CSA 和 Nema 12 认证. 为高真空应用提供解决方案, 适用于质谱分析, 电子显微术, 测量技术, 粒子加速和等离子体物理方面的应用. 除了用于分析, 真空工艺和半导体技术外, 还可用于真空镀膜, 研发以及工业领域.

若您需要进一步的了解 Pfeiffer 分子泵详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：
上海伯东: 罗先生

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