氦质谱检漏仪光刻机检漏

2022/08/22   下载量: 0

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应用领域 半导体
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上海伯东客户日本某生产半导体用光刻机公司, 光刻机真空度需要达到 1x10-11 pa 的超高真空, 因为设备整体较大, 需要对构成光刻机的真空相关部件进行检漏且要求清洁无油, 满足无尘室使用要求, 为了方便进行快速检漏, 采购伯东 Pfeiffer 便携式氦质谱检漏仪 ASM 310.

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氦质谱检漏仪光刻机检漏


  海伯东客户日本某生产半导体用光刻机公司, 光刻机真空度需要达到 1x10-11 pa 的超高真空, 因为设备整体较大, 需要对构成光刻机的真空相关部件进行检漏且要求清洁无油, 满足无尘室使用要求, 为了方便进行快速检漏, 采购伯东 Pfeiffer 便携式氦质谱检漏仪 ASM 310.

光刻机检漏方法:


采用真空模式检漏, 漏率值设定为 1x10-11pa m3/s.
1. 通过波纹管与光刻机真空系统连接
2. 使用喷枪, 喷扫管路, 腔体焊缝, 接头等部位, 如果存在超过设定漏率值的狭缝, 检漏仪会时时发出声光报警, 同时在屏幕上显示漏率值.



便携式氦质谱检漏仪 ASM 310 主要技术参数:


对氦气的最小检测漏率

真空模式 5E-13 Pa m3/s ,吸枪模式 1E-8 Pa m3/s

检测模式

真空模式和吸枪模式
检漏方法>>

氦质谱检漏仪无油前级泵抽速

1.7 m3/h

检测气体

4He , 3He, H2

响应时间

<1s

对氦气的抽气速度

1.1 l/s

氦质谱检漏仪进气法兰

DN 25 ISO-KF

进气口最大压力

15 hPa

通讯接口

RS-232

工作温度

10-40 °C

噪音水平

< 45 dB (A)

尺寸

350 X 245 X 141 mm

重量

21 kg (46 lb)


鉴于客户信息保密, 若您需要进一步的了解光刻机检漏, 请参考以下联络方式
上海伯东: 罗先生

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