方案摘要
方案下载| 应用领域 | 机械设备 |
| 检测样本 | 其他 |
| 检测项目 | |
| 参考标准 | / |
在半导体制程工艺中，刻蚀（Etch）是指将晶圆上没有被光刻胶覆盖或保护的部分，以化学反应或物理作用的形式加以去除，完成将图形转移到晶圆片表面上的工艺过程。刻蚀分为湿刻蚀（Wet Etching）和干刻蚀（Dry Etching）。干刻蚀则泛指采用气体进行刻蚀的所有工艺，即在晶圆上叠加光刻胶或金属掩模后，将其裸露于刻蚀气体中的工艺。干法刻蚀分为三种：PE等离子体刻蚀、IBE离子束刻蚀和RIE反应离子体刻蚀。
在半导体制程工艺中，刻蚀（Etch）是指将晶圆上没有被光刻胶覆盖或保护的部分，以化学反应或物理作用的形式加以去除，完成将图形转移到晶圆片表面上的工艺过程。刻蚀分为湿刻蚀（Wet Etching）和干刻蚀（Dry Etching）。干刻蚀则泛指采用气体进行刻蚀的所有工艺，即在晶圆上叠加光刻胶或金属掩模后，将其裸露于刻蚀气体中的工艺。干法刻蚀分为三种：PE等离子体刻蚀、IBE离子束刻蚀和RIE反应离子体刻蚀。
应用 | 器件 | 刻蚀材料 |
磁性器件 | 磁头，磁流变传感器，其他硬碟磁头，磁流变/磁流变传感器，自旋电子器件
| Ni-Fe, Ni-Co, Co-Fe 电极层(Ti/Pt/Au) |
传感器 | Pt薄膜热传感器，红外传感器,燃油质量传感器，空气流量传感器，应变传感器
| NiCr, PZT, W, Ta 电极层(Ti/Pt/Au) |
射频器件 | 射频滤波器，GaAs/GaN HEMT，薄膜金属化衬底
| Ru, Cr, LiTaO3 电极层(Ti/Pt/Au) |
光学器件 | 激光二极管，光电二极管，薄膜组件，LN调制器
| GaN, LiNbO3 电极层(Ti/Pt/Au) |
其他应用 | 探针，氧化物半导体，超导体 | NiCr, Cr, Cu, Pd LuFe2O4, SrTiO4 |
IBE离子束刻蚀是利用低能量平行Ar+离子束对基片表面进行轰击，将基片表面未覆盖掩膜的部分溅射出，从而达到选择刻蚀的目的主要用来金属、合金、氧化物、化合物、混合材料、半导体、绝缘体、超导体等材料的刻蚀。
与PE等离子体刻蚀和RIE反应离子体刻蚀工艺相比，IBE刻蚀具有刻蚀惰性金属和氧化的独特优势，适合以下应用：
上海伯东是德国 Pfeiffer 真空设备, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国Gel-pak 芯片包装盒, 美国 inTEST 高低温冲击测试机， 日本 NS 离子蚀刻机, 比利时 Stratasys 3D 打印机, 比利时原装进口 Europlasma 等离子表面处理机 和美国 Ambrell 感应加热设备 等进口知名品牌的指定代理商 .我们真诚期待与您的合作!
若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络
上海伯东: 罗女士
上海伯东版权所有, 翻拷必究！
文献贡献者
上海伯东 Europlasma 等离子表面处理设备在医疗器械行业的应用
上海伯东 Europlasma 纳米亲水涂层在氢燃料电池外壳中的应用
上海伯东 Europlasma 低压等离子设备在气体和液体过滤介质中的应用
相关产品
inTEST 热流仪 5G 通讯模块高低温冲击测试
聚丙烯 PP膜等离子表面亲水改性设备
气体和液体过滤介质用低压等离子表面处理设备
微控制器 MCU 芯片高低温测试机,美国 inTEST 热流仪
美国 inTEST 汽车芯片用高低温测试机,热流仪
功率器件高低温冲击测试机,美国 inTEST 热流仪
PMMA 亚克力板等离子表面活化机
IBF 离子束抛光工艺用考夫曼离子源
IBAD 辅助镀膜用考夫曼离子源
LED-DBR 辅助镀膜用离子源
上海伯东美国 KRi 大面积射频离子源 RFICP 380
上海伯东美国 KRi 霍尔离子源 eH 3000
上海伯东美国 KRI 霍尔离子源 ,霍尔源eH 2000
上海伯东美国 KRI 霍尔离子源 eH 1000
KRI 霍尔离子源, 霍尔源,eH 400
关注
拨打电话
留言咨询
