方案摘要
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随着微纳制造技术的发展,软刻蚀技术因其在微流体、组织工程和生物医学等领域的广泛应用而受到重视。PDMS(聚二甲基硅氧烷)作为一种常用的软刻蚀材料,其母模板的制备质量直接影响到最终产品的性能。Hakuto 7.5IBE 离子刻蚀机以其高效、简便的操作特点,为软刻蚀母模板的制备提供了新的选择。 西南某高校在 PDMS 软刻蚀用母模板研究中有采用到伯东 Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE .
报告摘要: 本报告旨在探讨 Hakuto 7.5IBE 离子刻蚀机在制备软刻蚀母模板方面的应用。通过使用伯东公司代理的 KRI 考夫曼公司的 KDC 75 离子源,该设备在操作简便性和制备周期上展现出显著优势,为软刻蚀母模板的高效制备提供了有效解决方案。
关键词: Hakuto 7.5IBE 离子刻蚀机,KDC 75 离子源,软刻蚀母模板,PDMS,高效制备
1. 引言 随着微纳制造技术的发展,软刻蚀技术因其在微流体、组织工程和生物医学等领域的广泛应用而受到重视。PDMS(聚二甲基硅氧烷)作为一种常用的软刻蚀材料,其母模板的制备质量直接影响到最终产品的性能。Hakuto 7.5IBE 离子刻蚀机以其高效、简便的操作特点,为软刻蚀母模板的制备提供了新的选择。
2. Hakuto 7.5IBE 离子刻蚀机概述 Hakuto 7.5IBE 离子刻蚀机是伯东公司代理的一款高性能离子刻蚀设备,其核心构件离子源为 KRI 考夫曼公司的 KDC 75。该离子源由美国考夫曼博士创立,以其卓越的性能和稳定性在行业内享有盛誉。
3. 应用背景与研究意义 软刻蚀技术在微纳制造领域具有重要应用,而 PDMS 作为软刻蚀材料的代表,其母模板的制备工艺直接影响到微结构的精度和一致性。Hakuto 7.5IBE 离子刻蚀机的应用,有望提高母模板的制备效率和质量,进而推动相关领域的技术进步。
4. 技术原理与操作流程 Hakuto 7.5IBE 离子刻蚀机采用先进的离子束技术,通过精确控制离子束的能量和方向,实现对材料表面的精细刻蚀。操作流程包括模板装载、参数设置、刻蚀过程监控和后处理等步骤,具有操作简便、制备周期短的特点。
案例分析:
西南某高校在 PDMS 软刻蚀用母模板研究中有采用到伯东 Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE .
Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE 技术规格:
真空腔 | 1 set, 主体不锈钢,水冷 |
基片尺寸 | 1 set, 4”/6”ϕ Stage, 直接冷却, |
离子源 | ϕ 8cm 考夫曼离子源 KDC75 |
离子束入射角 | 0 Degree~± 90 Degree |
极限真空 | ≦1x10-4 Pa |
刻蚀性能 | 一致性: ≤±5% across 4” |
该 Hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE 的核心构件离子源是配伯东公司代理美国考夫曼博士创立的 KRI考夫曼公司的考夫曼离子源 KDC 75
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伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC75 技术参数:
离子源型号 | 离子源 KDC 75 |
Discharge | DC 热离子 |
离子束流 | >250 mA |
离子动能 | 100-1200 V |
栅极直径 | 7.5 cm Φ |
离子束 | 聚焦, 平行, 散射 |
流量 | 2-15 sccm |
通气 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型压力 | < 0.5m Torr |
长度 | 20.1 cm |
直径 | 14 cm |
中和器 | 灯丝 |
伯东离子蚀刻机应用领域
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