抛光机

2011-09-07 12:21  下载量:1

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多片抛光机系统 对天然的、富含杂质的矿石物质的抛光过程要比普通的岩石样品抛光困难的多。对物质的抛光要与该物质的地质属性相一致,此设备磨抛不同岩石薄片其厚度可以精确调节。 该产品对样品的抛光会在同一时间内进行三个方面的操作: 1)抛光盘的自动旋转。 2)样品夹持器自旋转。 3)旋转速度大小可以自调。 该设备同时处理1至3个样品薄片,可以在几分钟内同时完成1个或3个样品的抛光工作。每个样品都有单独设置厚度的压片器(3个样品最大尺寸是30X45mm; 3个样品最大尺寸是45X60mm)。 2) 抛光过程是定时控制,没有其它外力干扰,运转时间可控,精确控制薄片厚度。 性能: 磨头:1-5个 转速:25到200rpm 标准样品尺寸:30x45mm, 60x45mm,特定 计时器:1到60分钟 抛光盘直径:200mm, 速度可调 多种抛光料:6um, 3um, 1um 50张抛光布:Φ200 mm 同时可以使用Φ150至Φ250 mm的抛光盘

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