资料摘要
资料下载氮氧化硅薄膜材料具有优异的热力学、介电及光学性能 ,在微电子、光学器件等方面有着重要应用。其 主要制备方法包括化学气相沉积、溅射、直接氮化/氧化及离子植入。综述了该类材料的制备方法和应用研究进展 , 并指出了制备方法和应用研究的发展方向。
等离子体表面处理技术在汽车行业中的应用
简介:上海昭沅仪器设备有限公司代理美国Plasma Etch 公司生产的等离子体表面处理设备。 专门针对于大学/科研机构、工厂研发的实验室型和工厂批量处理装置,具有移动方便、多 种配置功能、超高性能及稳定性、操作方便的特点。
等离子体表面处理-低温等离子体概念
简介:上海昭沅仪器设备有限公司代理美国Plasma Etch 公司生产的等离子体表面处理设备。 专门针对于大学/科研机构、工厂研发的实验室型和工厂批量处理装置,具有移动方便、多 种配置功能、超高性能及稳定性、操作方便的特点。
等离子体表面处理-低温等离子体概念
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等离子清洗机/等离子处理机在高端科技领域中的应用
简介:等离子表面处理机可用于高端科技领域,比如应用于电池隔膜处理,提髙吸碱率及亲水性;应用于航空航天连接器,改善电连接器中的绝缘体与封线体之间的粘接效果。
等离子清洗机/等离子处理机在IC半导体领域的应用
简介:等离子处理系统目前可用于半导体领域,例如清洁,蚀刻,表面活化和提高可制造性;先进半导体封装和组装(ASPA),晶圆级封装(WLP);封装,成型
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