| 型号： | ADPC 302 |
| 产地： | 法国 |
| 品牌： | 普发真空 |
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ADPC 302 是一款在半导体领域独特的用于粒子污染监测的过程内污染管理系统。
高效粒子监测
亚微米粒子会造成可能导致相当大产量损失的缺陷。即使是测量值为 0.1 μm 的最小粒子，也可能会损坏半导体芯片的结构。创新的 ADPC 302 可测量晶片传送载体内的粒子数量（前开式晶圆传送盒 FOUP，前开式装运箱 FOSB）。全自动的专利工艺从载体表面(包括门)对粒子进行定位和计数。
得益于领先的晶圆，该系统可用于成批生产和研发分析。主要应用是载体特征化丶清洗策略优化和清洗质量检查。
与传统湿法相比较（液体颗粒计数器），ADPC 的干式工艺（干式粒子计数器）显示出了明显的优势。干式工艺的主要优势在于粒子测量是完全自动的。它是在生产过程中集成的，因此不再需要生产周期之外的时间。有了全自动测量，该过程无需额外的操作员。测试时间只需 ７分钟，意味着 ADPC 302 的速度是传统系统的 ４ 倍。可在 １ 个小时内测试 8 个运输箱。
APA 302
在洁净室环境下，APA 302 是用于先进芯片制造的独特在线监测工具。这台革新性设备可以测量 FOUP 和周围环境中的空气分子污染物（简称 AMC）。该测量实时发生，在 ppbv 范围内具有很高的灵敏度。
有效的污染监测
水分和空气分子污染物 (AMC)，例如，氟化氢 (HF)，于等待时间内，在 FOUP 槽对槽的空间里被释放出来。而这些元素会在图样晶圆上生成晶体生长，从而导致产量的损失和性能的退化。普发真空的 APA 302 通过 FOUP 过滤器来对 AMC 进行采样。在 ppb 的范围内，通过离子迁移光谱仪丶火焰离子化检测丶荧光紫外线或光腔衰荡光谱技术，测量在 2 分钟内发生，具有高灵敏度。而当负载端口上没有 FOUP 时，APA 302 会监控周围的洁净室环境。
FOUP 环境的可靠分析
为了保证性能，SEMI S2/S8 兼容的 APA 302 配备了自动校准功能，它会在定期的时间间隔内被激活。对于在 APA 中对 AMC 的监控，可在有晶圆或无晶圆的 POD 中执行。FOUP 可以手动传送，也可通过 2 个负载端口上的悬挂式起重运输 (OHT) 来传送。因此，可优化各工艺步骤间的等待时间，污染的增加量能立刻被察觉到，且产量增加。
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