方案摘要
方案下载| 应用领域 | 石油/化工 |
| 检测样本 | 氧化物 |
| 检测项目 | 含量分析>纯度及杂质含量 |
| 参考标准 | / |
H2O2溶液中的可溶性有机杂质会对半导体工艺和半导体产品造成影响。由于基体产生化学反应，因此分析 H2O2溶液中的有机物含量极为困难。此外，H2O2溶液中的有机化合物很稳定，即使在高反应条件下也难以被完全氧化。要想对H2O2溶液进行准确而稳健的总有机碳分析，就需要一种能够有效氧化稳定的有机化合物的仪器和方法。 Sievers InnovOx ES实验室型分析仪能够准确地、精确地测量30％的浓缩H2O2溶液中的各种TOC浓度。在整个测量过程中，分析仪器表现出很好的稳定性，并且耐受H2O2基体，在规定的维护周期内没有发生降解。
H2O2溶液中的可溶性有机杂质会对半导体工艺和半导体产品造成影响。由于基体产生化学反应，因此分析H2O2溶液中的有机物含量极为困难。此外，H2O2溶液中的有机化合物很稳定，即使在高反应条件下也难以被完全氧化。要想对H2O2溶液进行准确而稳健的总有机碳分析，就需要一种能够有效氧化稳定的有机化合物的仪器和方法。
Sievers InnovOx ES实验室型分析仪能够准确地、精确地测量30％的浓缩H2O2溶液中的各种TOC浓度。在整个测量过程中，分析仪器表现出很好的稳定性，并且耐受H2O2基体，在规定的维护周期内没有发生降解。
文献贡献者
Sievers TOC-R3在线型TOC分析仪：挥发性有机碳（VOC）检测器
白皮书：清洁验证的TOC方法
用Sievers TOC-R3在线TOC分析仪优化废水厌氧处理工艺
DataShare Elite软件-适用于Sievers TOC分析仪
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