方案摘要
方案下载| 应用领域 | 电子/电气 |
| 检测样本 | 电子元器件产品 |
| 检测项目 | 物理性质>其他 |
| 参考标准 | 日标 |
可整面快速检测膜厚分布的新一代椭偏仪，透明基板上的极薄膜厚也可检测。
新一代全检膜厚测量椭偏仪ME-210（-T）
常规椭偏仪通常只能对一点进行膜厚测量，而且单点测量也需要耗费时间，虽然也有可以做到自动扫描检测整个样品膜厚状况的手段，但是点数和时间以及精度往往无法满足工业客户的需求；对客户的这一痛点日本Photonic lattic 通过以自研的偏振传感器为核心的新一代全检膜厚测量椭偏仪，可以做到1000点/分钟，6寸产品最快可以在3分钟内完成，不仅如此，ME-210-T针对透明基板也可测量。
高速/面分布测量
最大每分钟1000点以上超高速全面测量膜厚，短时间内就可以取得整个产品膜厚和分布图
微小领域测定（20un左右）
可简单测量任意微小区域
透明基板上的薄膜厚度也可测量
适用于玻璃基板上的极薄膜测定
文献贡献者
VR镜片应力双折解决方案
Lasertec共聚焦显微镜在OLED行业的应用
内型面检测的解决方案
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