安赛斯精密匀胶机12英寸晶元
安赛斯精密匀胶机12英寸晶元
安赛斯精密匀胶机12英寸晶元

安赛斯精密匀胶机12英寸晶元

参考价:¥5万 - 10万
型号: SC200-SE
产地: 北京
品牌:
评分:
核心参数
安赛斯(中国)有限公司
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产品详情

安赛斯精密匀胶机,本型号适用于12英寸及以下晶元旋涂需要。



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具体配置及报价,请咨询安赛斯工作人员。



产品介绍:

 

名称:高精密匀胶机

型号:SC200-SE

产地:

应用:在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。

 


产品概述:

 

  精密匀胶机是一种小型、灵活和经济的旋转匀胶设备,它可以实现价值百万美元设备(track)的上才可能达到稳定性和均匀性。

  不锈钢外壳比塑料或者烤漆金属更耐久和美观;工业级别400瓦伺服电机系统,采用于track设备相同设计和程序,使您的工艺更具有实际应用意义;同类产品中达到50000rpm/s的旋转加速度,确保旋转匀胶的稳定性和极高的可重复性。

性能指标:

 

l  主机机箱采用不锈钢材料(抗化学腐蚀易清洁)

l  旋涂程序:最多存100组程序,每组100步,每个步骤可精确到0.1

l  转动速度:0-5,000rpm(更高速可选),考虑重片或大片旋涂安全性限定为5000rpm

l  旋涂加速度:0-10,000rpm/sec(更高可选),考虑重片或大片旋涂安全性限定为10000rpm/s

l  马达旋涂转速稳定性能误差 < ±1rpm

l  转速调节精度<1rpm,重复性< 1rpm

l  工艺时间设定: 0-3,000 sec/step,时间设置精度:0.1sec

l  支持wafer尺寸25px-300mm12“圆晶)

l  旋涂作业均匀性:< ±3% 6英寸范围内(需要去除边缘3毫米区域测量)

 

产品特点:

l  内部紧凑设计,缩小了设备的尺寸。

l  7"触屏控制面板操作系统,更方便操作。

l  Telon ®/polyethylene “密闭碗”设计可适合各种材料匀胶工艺。

l  标准配置转速5000rpm,并可根据用户需要进行定制。

l  采用工业级别伺服电机,电机设计避免光刻胶等污染物进入电机内部。

l  机身选用耐酸碱、耐冲击、耐腐蚀不锈钢,永不生锈,便于清洗。

l  排风和抽气系统位计于载片台之底部 以利于排风效率和匀胶均一性

l  透明可视,耐化学腐蚀的密封盖,可以在旋涂作业时完全隔绝光阻的溢出及有效隔绝有毒气味的散发。


产品外型尺寸:

     613mm(D) * 463mm(W) * 306mm(H)

咨询或索取详细产品资料,请联系ANALYSIS(安赛斯)工作人员。



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典型用户
用户单位 采购时间
中科院物理所 2015/09/14
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