型号: | Desk-V TSC |
产地: | 美国 |
品牌: | |
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【Emcrafts】第二代钨灯丝系列扫描电子显微镜配套小型离子溅射仪
针对绝大多数扫描电镜应用,高真空模式或高分辨模式,要求样品必须导电良好,否则样品表面荷电造成图像缺陷和分辨率恶化。在非导电绝缘材料表面制备1-10nm金属导电膜层是最常用的样品处理手段,可采用离子溅射镀膜法或热蒸发镀膜法,前者更为方便,使用更为广泛,离子溅射仪在很多情况下是扫描电子显微镜实验室标配。
DESK-V TSC型高真空小型离子溅射仪,采用磁控溅射方式,获得超级精细膜层,广泛用场发射扫描电镜超高分辨观察,或透射电镜样品制备碳支持膜,可用于其他高质量镀膜实验研究。采用专利的阳极保护栅网,实现镀膜过程中样品表面保持常温状态,没有热损伤。该溅射仪具有样品等离子清洗刻蚀功能,可选配蒸碳附件。
主要功能:
1、精细、超精细离子溅射导电膜制备;专业级金属膜层试验。
2、样品等离子刻蚀清洗
3、蒸碳镀膜
主要特点:
1、磁控溅射速度快。对于扫描电镜或透射电镜制样,抽真空-溅射-泄真空3分钟完成。
2、镀膜质量更高,可获得精细晶粒膜层,膜层结合力强度高。可使用结晶更细小的金属靶材。
3、对样品无热损伤的冷溅射。
4、样品等离子刻蚀功能,一个手动控制挡板降低样片在刻蚀过程中受到的污染。
5、基于PLC的强大控制系统,全部触摸屏操作,可手动、半自动控制、全自动控制。
6、真空高压互锁安全机制
7、标准的操作软件,实时监控各部件状态,方便技术支持,节约用户费用。
性能指标:
标准配置
样品室: φ150mm X 150mm(H) 不锈钢真空室,带观察窗
靶: 金GOLD或金钯合金GOLD/PALLADIUM(随机)φ50mmX0.1mm
样品台: φ50mm 旋转样品台
溅射电流: 0-100mA
真空规: 皮拉尼+热电偶
溅射气体: 氩气
真空泵: 85L/Min 机械泵
Pfeiffer 70 lps涡轮分子泵
15分钟抽到5E-6Pa 极限真空。获得超高真空环境,提高镀膜质量
选配
膜厚监控: 石英晶体膜厚监控器
样品台: φ75mm 旋转样品台
φ100mm旋转样品台(选此台,膜厚监控器无法安装)
旋转倾斜样品台 (选择此台,无法实现样品刻蚀功能)
蒸碳附件: 碳棒或碳丝绳
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