资料摘要
资料下载当前，最先进的钨灯丝扫描电镜极限分辨率为4nm左右，有效放大10万倍，结合实际使用中信噪比要求和操作效率，对于自然反差良好的一维或二维纳米材料，可有效表征50nm左右尺度结构，Genesis扫描电镜可以轻松获得良好的观测结果。
文献贡献者
扫描电子显微镜选型指南
简介：钨丝枪扫描电镜结构较为简单，价格较为经济，满足绝大多数材料研发基本需求。 我司专业供应系列钨丝枪扫描电镜，请按照如下应用指南选型。
电子显微镜基本技术原理及诞生背景
简介：电子显微成像： 电子显微镜中，对电子束进行折射的物质为电场或磁场，中心对称的磁场，其成像性质和高斯透镜几何光学一级近似，被称为磁透镜。磁透镜可以是永磁和电磁。地球沿着南北极贯穿，可以看做一个巨大的磁透镜，磁透镜焦距固定；电磁透镜通过改变线圈电流可改变透镜磁场强度，从而改变透镜焦距。
驰奔扫描电镜应用：超疏水膜层观测
简介：超疏水膜层构造粗糙微观结构工艺设置，离不开扫描电镜表征。本文扫描电镜观察磁控溅射法制备的膜层。驰奔扫描电镜是快速观测手段
驰奔-E系列扫描电镜应用-硅太阳能电池
简介：驰奔-E系列扫描电镜，可满足硅太阳能电池制造工艺控制检测需要。 采用Cube台式或Genesis小型立式扫描电镜，需要切割芯片。使用Veritas 大样品仓扫描电镜可观察整块芯片，无损检测。
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