PE-ALD 等离子体增强--原子层沉积_价格-北京亚科晨旭科技有限公司

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PE-ALD 等离子体增强--原子层沉积

ALD逐层沉积，在三维形貌沉积中保持高的均匀性，通过工艺过程中分步添加前置物，可以准确的控制膜厚和薄膜特性折射率和消光系数。PE-ALD是一种先进的方法，通过将自由基（radical）的气体样品，而不是水（沉积过程中作为氧化物oxidizer）。

ALD逐层沉积，在三维形貌沉积中保持高的均匀性，通过工艺过程中分步添加前置物，可以准确的控制膜厚和薄膜特性折射率和消光系数。PE-ALD是一种先进的方法，通过将自由基（radical）的气体样品，而不是水（沉积过程中作为氧化物oxidizer）。

第一台PE-ALD，目前已经安装在TU Braunschweig。用于沉积Al2O3 和ZnO。新的ALD系统，包括热和等离子体辅助工艺，并使用SENTECH的椭偏仪监控沉积。SENTECH提供前沿的超快在线的激光椭偏仪或光谱椭偏仪，监控薄膜的生长.
对于沉积Al2O3, TMA (C3H9Al) 和等离子体产生氧原子，衬底温度80?°C - 200?°C。PEALD薄膜具有高的膜厚均匀性和小的折射率变化。

北京亚科晨旭科技有限公司为您提供PE-ALD 等离子体增强--原子层沉积，nullPE-ALD 等离子体增强--原子层沉积产地为德国，属于进口原子层沉积设备，除了PE-ALD 等离子体增强--原子层沉积的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供PICOSUN®R-200高级ALD镀膜设备,ASTchian客服电话400-860-5168转4552，售前、售后均可联系。

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企业名称: 北京亚科晨旭科技有限公司
企业类型:
信用代码: 110105009081828
成立日期: 2005年11月28日
注册资本: 500
经营范围: 技术推广；市场调查；经济贸易咨询；展览服务；组织文化艺术交流活动（不含演出）；货物进出口、技术进出口、代理进出口；销售机械设备、五金交电及电子产品、矿产品、建材及化工产品（不含危险化学品）。（企业依法自主选择经营项目，开展经营活动；依法须经批准的项目，经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动；不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。）

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型号：	PE-ALD 等离子体增强--原子层沉积
产地：	德国
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