亚科电子-超高分辨率电子束光刻EBL
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亚科电子-超高分辨率电子束光刻EBL

参考价:面议
型号: 超高分辨率电子束光刻EBL
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超高分辨率电子束光刻EBL
Ultrahigh Resolution EB Lithography 

纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是最好的方法之一。

超高分辨率的电子束光刻


加速电压:最高130keV
单段加速能力达到130keV,尽量减少电子枪的长度
超短电子枪长度,无微放电
电子束直径<1.6nm
最小线宽<7nm
双热控制,实现超稳定直写能力


北京亚科晨旭科技有限公司为您提供亚科电子-超高分辨率电子束光刻EBL,null超高分辨率电子束光刻EBL产地为其他国家,属于国产无掩模光刻机/直写光刻机,除了亚科电子-超高分辨率电子束光刻EBL的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多无掩模光刻机/直写光刻机,ASTchian客服电话400-860-5168转4552,售前、售后均可联系。

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