ICP 刻蚀机 :高密度等离子蚀刻装置NE-550

ICP 刻蚀机 :高密度等离子蚀刻装置NE-550

参考价:¥90万
型号: ICP 刻蚀机 :高密度等离子蚀刻装置NE-550
产地: 英国
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ICP 刻蚀机 高密度等离子蚀刻装置NE-550

 

 

特点:

等离子密度与向基板入射的能量能够单独控制,因此Process window宽。

均一性好。

离子性蚀刻到radical性蚀刻都能都大幅度控制。

构造简单,维护性能优越。

来自半导体技术研究所的工艺支持体制。

CSCustomer’s Support )解决方案的综合服务体制。

可选Cassette室,提高生产量。

 

丰富的Process Application

1.ISM: Inductively Super Magnetron有磁场ICP

2.ISM是可以由低电源得到稳定均一的放电,达到Damage最少的蚀刻。

3.使用不挥发性材料的次时代memory‐Al2O3,磁性体,Pt, Ir, PZT, SBTO

4.超高频率器件,光器件。

绝缘膜,GaAs/AlGaAs(In),AlGaInP,InP,SiC,ZnSe, SapphireGaNSTO/Pt, Au/Pt, W, WSi, Ti, Mo, Ta, BCB, PolyimideBST, STO

5.各种传感器器件等Photo Nic结晶。

6.MEMS(micromachine


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