型号: | 原子层沉积系统ALD |
产地: | 芬兰 |
品牌: | |
评分: |
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PICOSUN原子层沉积系统ALD
PICOSUN®P-300BV
PICOSUN®P-300BV ALD系统是专门为生产LED,分立器件和MEMS设备(例如打印头,传感器和麦克风)而设计的。
PICOSUN®P-300 ALD系统已成为大批量ALD制造中的新标准。通过将我们的 热墙设计与完全分开的入口集成在yi起,我们可以生产出具有优异产量,低颗粒水平以及卓越的电学和光学性能的zui高质量的ALD膜。灵活的设计以及易于快速的维护,确保了系统停机时间zui少,市场拥有成本zui低。我们专有的Picoflow™扩散增强剂技术可通过经过生产验证的工艺,在超高深宽比的基材上实现高度保形的涂层。
PICOSUN®P-300BV ALD系统代表了工业ALD的尖端。该系统设计用于半自动处理晶圆批次。该工具针对快速批量生产进行了优化,可以通过SECS / GEM选件集成到工厂自动化中。带有加热选件的真空加载系统能够对敏感基材进行清洁处理,并沉积诸如金属氮化物之类的材料。
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