型号: | PICOSUN®P-300S |
产地: | 芬兰 |
品牌: | |
评分: |
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PICOSUN原子层沉积系统ALD
PICOSUN®P-300S
PICOSUN®P-300S ALD系统是专门为生产IC组件(例如微处理器,存储器和硬盘驱动器)而设计的,并且还适用于MEMS设备(例如打印头,传感器和麦克风)。
PICOSUN®P-300 ALD系统已成为大批量ALD制造中的新标准。通过将我们的 热墙设计与完全分开的入口集成在yi起,我们可以生产出具有优异产量,低颗粒水平以及卓越的电学和光学性能的zui高质量的ALD膜。灵活的设计以及易于快速的维护,确保了系统停机时间zui少,市场拥有成本zui低。我们专有的Picoflow™扩散增强剂技术可通过经过生产验证的工艺,在超高深宽比的基材上实现高度保形的涂层。
PICOSUN®P-300S ALD系统代表了工业ALD的尖端。该系统旨在与行业标准真空集群平台结合使用,对单个晶圆进行全自动处理。可以通过SECS / GEM选件将SEMI S2 / S8认证的P-300S ALD系统集成到工厂自动化中,它们可以满足半导体行业zui严格的清洁度要求。
PICOSUN®P-300S是IC创新驱动行业的首选ALD系统。
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