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Electron Beam Lithography System(EBL)

电子束光刻系统

应用领域广泛，如微纳器件加工，Si/GaAs 兼容工艺，研究用掩膜制造，纳米加工（例如单电子器件、量子器件制作等），高频电子器件中的混合光刻（Mix & Match），图形线宽和图形位移测量等。

电子束光刻最小线宽可达 8nm，最小束斑直径 2nm，套刻精度

20nm(mean+2σ)，拼接精度 20nm(mean+2σ)。

技术参数： 1.最小线宽：小10nm（8nm available)

2.加速电压：5-50kV

3. 电子束直径：小于 2nm

4.套刻精度：20nm(mean+2σ)

5.拼接精度：20nm(mean+2σ)

6.加工晶圆尺寸：4-8 英寸(standard)，12 英寸(option)

7.描电镜分辨率：小于 2nm

北京亚科晨旭科技有限公司为您提供电子束光刻亚科电子，null亚科电子产地为日本，属于进口无掩模光刻机/直写光刻机，除了电子束光刻的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供更多无掩模光刻机/直写光刻机,ASTchian客服电话400-860-5168转4552，售前、售后均可联系。

Business information

工商信息

信息已认证

企业名称: 北京亚科晨旭科技有限公司
企业类型:
信用代码: 110105009081828
成立日期: 2005年11月28日
注册资本: 500
经营范围: 技术推广；市场调查；经济贸易咨询；展览服务；组织文化艺术交流活动（不含演出）；货物进出口、技术进出口、代理进出口；销售机械设备、五金交电及电子产品、矿产品、建材及化工产品（不含危险化学品）。（企业依法自主选择经营项目，开展经营活动；依法须经批准的项目，经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动；不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。）