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Electron Beam Lithography System(EBL)

电子束光刻系统

应用领域广泛，如微纳器件加工，Si/GaAs 兼容工艺，研究用掩膜制造，纳米加工（例如单电子器件、量子器件制作等），高频电子器件中的混合光刻（Mix & Match），图形线宽和图形位移测量等。

超高分辨率的电子束光刻

技术参数：

加速电压：zui高 130keV

单段加速能力达到 130keV，尽量减少电子枪的长度超短电子枪长度，无微放电

电子束直径＜1.6nm

最小线宽＜7nm

双热控制，实现超稳定直写能力

北京亚科晨旭科技有限公司为您提供亚科电子-超高分辨率的电子束光刻，null亚科电子产地为日本，属于进口无掩模光刻机/直写光刻机，除了亚科电子-超高分辨率的电子束光刻的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供更多无掩模光刻机/直写光刻机,ASTchian客服电话400-860-5168转4552，售前、售后均可联系。

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Business information

工商信息

信息已认证

企业名称: 北京亚科晨旭科技有限公司
企业类型:
信用代码: 110105009081828
成立日期: 2005年11月28日
注册资本: 500
经营范围: 技术推广；市场调查；经济贸易咨询；展览服务；组织文化艺术交流活动（不含演出）；货物进出口、技术进出口、代理进出口；销售机械设备、五金交电及电子产品、矿产品、建材及化工产品（不含危险化学品）。（企业依法自主选择经营项目，开展经营活动；依法须经批准的项目，经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动；不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。）

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型号：	亚科电子
产地：	日本
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