EVG®6200 BA自动键对准系统
EVG®6200 BA自动键对准系统

EVG®6200 BA自动键对准系统

参考价:面议
型号: EVG®6200 BA自动键对准系统
产地: 奥地利
品牌: EVG
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EVG®6200  BA  Automated Bond Alignment System

EVG®6200 BA自动键对准系统

 

用于晶圆间对准的自动化键合对准系统,用于中试和批量生产

 

EVG粘合对准系统提供了最高的精度,灵活性和易用性,模块化升级功能,并且已经在众多高通量生产环境中进行了认证。 EVG键对准器的精度可满足MEMS生产和3D集成应用等新兴领域中最苛刻的对准过程。

 

特征

适用于所有EVG 200 mm粘合系统

支持最大200 mm晶片尺寸的双晶片或三晶片堆叠的键合对准

手动或电动对中平台,带有自动对中选项

全电动高分辨率底面显微镜

基于Windows®的用户界面

选件

自动对齐

红外对准,用于内部基板键对准

NanoAlign®封装可增强处理能力

可与系统机架一起使用

面罩对准器的升级可能性

 

技术数据

常规系统配置

桌面

系统机架:可选

隔振:被动

对准方法:背面对齐:±2 μm 3σ  透明对准:±1 μm 3σ

红外校准:选件

对准阶段:精密千分尺:手动;     可选:电动千分尺

楔形补偿:自动


北京亚科晨旭科技有限公司为您提供EVG®6200 BA自动键对准系统EVG®6200 BA自动键对准系统,EVGEVG®6200 BA自动键对准系统产地为奥地利,属于进口无掩模光刻机/直写光刻机,除了EVG®6200 BA自动键对准系统的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多无掩模光刻机/直写光刻机,ASTchian客服电话400-860-5168转4552,售前、售后均可联系。

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