EVG 301 单晶圆清洗系统_价格-北京亚科晨旭科技有限公司

EVG 301 单晶圆清洗系统

参考价：¥200万 - 300万

型号：

EVG 301 单晶圆清洗系统

产地：

奥地利

品牌：

EVG

评分：

产品详情

EVG®301 Single Wafer Cleaning System

EVG®301 单晶圆清洗系统

研发型单晶圆清洗系统

EVG301半自动化单晶片清洗系统采用一个清洗站，该清洗站使用标准的去离子水冲洗以及超音速，毛刷和稀释化学药品作为附加清洗选项来清洗晶片。

EVG301具有手动加载和预对准功能，是一种多功能的R＆D型系统，适用于灵活的清洁程序和300 mm的能力。

EVG301系统可与EVG的晶圆对准和键合系统结合使用，以消除晶圆键合之前的任何颗粒。旋转夹头可用于不同的晶圆和基板尺寸，从而可以轻松设置不同的工艺。

特征

使用1 MHz的超音速喷嘴或区域传感器（可选）进行高效清洁

单面清洁刷（选件）

用于晶圆清洗的稀释化学品

防止从背面到正面的交叉污染

完全由软件控制的清洁过程

选件

带有红外检查的预粘接台

非SEMI标准基材的工具

技术数据

晶圆直径（基板尺寸）200、100-300毫米

清洁系统：开室，旋转器和清洁臂

腔室：由PP或PFA制成（可选）

清洁介质：去离子水（标准），其他清洁介质（可选）

旋转卡盘：真空卡盘（标准）和边缘处理卡盘（选件），由不含金属离子的清洁材料制成

旋转：最高3000 rpm（5秒内）

超音速喷嘴：频率：1 MHz（3 MHz选件）

输出功率：30-60 W

去离子水流量：最高1.5升/分钟

有效清洁区域：?4.0 mm

材质：聚四氟乙烯

兆声区域传感器：频率：1 MHz（3 MHz选件）

输出功率：最大 2.5 W /cm2有效面积（最大输出200 W）

去离子水流量：最高1.5升/分钟

有效的清洁区域：三角形，确保每次旋转时整个晶片的辐射均匀性

材质：不锈钢和蓝宝石；刷；材质：PVA

北京亚科晨旭科技有限公司为您提供EVG 301 单晶圆清洗系统，EVGEVG 301 单晶圆清洗系统产地为奥地利，属于进口湿法清洗设备，除了EVG 301 单晶圆清洗系统的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供更多湿法清洗设备,ASTchian客服电话400-860-5168转4552，售前、售后均可联系。

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