| 型号： | PicoMaster ATE-200 |
| 产地： | 荷兰 |
| 品牌： | Raith/矽万 |
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PicoMaster ATE-200无掩模激光直写光刻机
●250纳米分辨率（375纳米激光源）
●300纳米分辨率（405纳米激光源）
●4095灰阶
●业界最具实力的成套全息设计软件
●最大230x230毫米基板尺寸
PicoMaster 200 是一款具有超高精度组件的多功能紫外激光写入器，专为用户提供在感光层中创建最高自由度的微结构而设计。系统的光栅化工作原理，搭配上高速扫描以及可调螺距步进激光头，确保了整个曝光制程在感光层表面准确而稳定地完成。PicoMaster 200 广泛应用于半导体光刻，LED芯片，微流控芯片，微纳结构，灰度光刻 ，三维加工全息影像等多个领域。
系统优点：
√ 系统支持高达4095级的灰度、纯二进制模式；
√ 系统对准精度最高小于250纳米，线宽均匀性小于50纳米；
√ 系统最大支持9英寸基版，400毫米/秒扫描速度，200x200毫米曝光面积；
√ 系统采取全封闭结构设计，必需的部件、控制架构和真空泵都在外壳内，便于快速安装；
√ 统连接到空气温度调节器机组开始供应空调空气时，内置堆式过滤器将产生干净的交叉气流；
√ 系统运动平台由机械缓振系统支撑，它将过滤掉绝大多数的噪音振动，以确保工作时的振动最小
激光直写：
√ 系统使用405纳米（可升级375纳米）激光源在感光层上曝光，不需订购或制作掩模，图案可随用户设计而改变；
√ 系统不使用掩模版，只需在基版上涂胶后用紫外激光聚焦进行曝光，激光在靶区被连续地调制到规定的剂量；
√ 光刻胶在激光照射下会改变其化学结构，曝光后很容易溶解在显影剂中，只需暴露部分区域就可以形成目标的图案。
无掩模激光直写系统性能规格：
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