型号: | AT |
产地: | 美国 |
品牌: | 安睿科 |
评分: |
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原子层沉积技术可沉积材料:
氧化物: Al2O3, ZrO2, HfO2, Ta2O5, SnO2, RuO2, ZnO, SrTiO3等
氮化物: TiN, NbN, TaN, Ta3N5, MoN, WN, TiSiN, SiN等
单一物质: Si, Ge, Cu, Mo, W, Ta, Ru等
半导体材料: GaAs, Si, InAs, InP, GaP, InGaP等
原子层沉积系统可以广泛应用于:
半导体领域:晶体管栅极电介质层(高k材料),光电元件的涂层,晶体管中的扩散势垒层和互联势垒层(阻止掺杂剂的迁移),有机发光显示器的反湿涂层和薄膜电致发光(TFEL)元件,集成电路中的互连种子层,DRAM和MRAM中的电介质层,集成电路中嵌入电容器的电介质层,电磁记录头的涂层,集成电路中金属-绝缘层-金属(MIM)电容器涂层。
纳米技术领域:中空纳米管,隧道势垒层,光电电池性能的提高,纳米孔道尺寸的控制,高高宽比纳米图形,微机电系统(MEMS)的反静态阻力涂层和憎水涂层的种子层,纳米晶体,ZnSe涂层,纳米结构,中空纳米碗,存储硅量子点涂层,纳米颗粒的涂层,纳米孔内部的涂层,纳米线的涂层。
技术参数:
1. 腔室专为R&D设计和优化,样品尺寸达直径4’’,支持扩展6‘’;
2. 反应腔温度可控范围:RT-350℃;
3. 前驱体源温度可控范围:RT-150℃;
4. 腔室处理压力可控范围:0.1-1.5 torr;
5. 源扩展多达5个;
6. 快速循环处理功能;
7. 气路最优化设计、腔体小型化设计;
8. 一分钟多达6-10;
9. 成熟的薄膜Recipes内置程序;
10. 触屏PLC控制;
11. 可配套手套箱使用;
12. 可配备臭氧发生器;
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