| 型号： | AL-1000 |
| 产地： | 北京 |
| 品牌： | 艾博 |
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一、产品特点：
1、面积大：0~?25毫米、0~?50毫米；
2、溅射样品表面膜层更均匀；
3、颗粒度更小（3nm左右）；
4、溅射到样品表面能量低，对样品损伤小；（适用温度敏感性高的样品）
5、可以溅射各种固体靶材（如各种金属、陶瓷、碳等）；
6、控制精度高，实验结果精准可控重复性高；
7、在同一真空腔内，可实现清洗和镀膜，降低污染样品造成的数据偏差 ；
8、加入特殊气体，可进行反应离子束刻蚀；
9、可实现的功能有：等离子清洗、镀膜等；
10、数字化自动控制系统。
二、技术参数：
1、真空度：极限真空度5*10-3Pa（不通氩气）；
2、*高压：（1）200~6000V；
3、样品台可旋转；
4、具有自保护功能；
5、单离子枪；
6、样品冷却：半导体冷却（ 选配件）。
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