艾博GVC-2000磁控离子溅射仪
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艾博GVC-2000磁控离子溅射仪

参考价:面议
型号: GVC-2000
产地: 北京
品牌: 艾博
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产品详情

微信图片_GVC2000.jpg

1.技术参数:

输入电压

AC220V±10%,50Hz

工作电压

DC2400V

最大功率(主机与机械泵)

500W

工作原理

磁控溅射

可选靶材

金、铂、银、铜、铝、铅等常用金属

真空泵

两级直联旋片式真空泵 1L/s

真空腔

φ128×130mm

样品杯

φ90×1 / φ25×4 / φ15×6

整机尺寸(长×宽×高)

424×271×255(mm)

重量(主机)

11 kg

工作环境

温度 5~40℃,湿度<60%

存储环境

温度-10~60℃,湿度<80%

工作气体

Air / Ar

保护功能

过流、真空双保护


2.效果图:

2.1 陶瓷滤膜铂靶10万倍( SU5500 ):

GCV-2000陶.png


2.2 喷金样品电镜观测图对比

GVC-2000样品形貌真实完整:

GCV-2000penjin.png


其他设备喷金的效果图(热损伤严重):

其他设备喷金.png



北京艾博智业离子技术有限公司为您提供艾博GVC-2000磁控离子溅射仪,艾博GVC-2000产地为北京,属于国产离子溅射仪,除了艾博GVC-2000磁控离子溅射仪的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多离子溅射仪,艾博智业客服电话400-860-5168转5015,售前、售后均可联系。

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