| 型号： | SU-8 2025 |
| 产地： | 江苏 |
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美国Microchem SU-8 2000系列是高对比度、环氧型负性光刻胶，专门为微加工和微电子领域的应用而研发，可以满足较高的厚度以及对化学和热稳定性高的要求，多年来一直被 MEMS 制造商广泛使用。SU-8 2000采用了改进的配方，单次涂布工艺可实现0.5至>200um的胶膜厚度。SU-8光刻胶具有优异的成像特性，由于其在365-400nm波长范围内吸收度很低（推荐选用Cchip-0019型光刻机），胶层可以获得均匀一致的曝光量，因此能够加工近似垂直侧壁和高深宽比的厚膜结构。
在微流控芯片加工中，SU-8光刻胶主要用于软光刻工艺，在硅片上加工SU-8光刻胶结构作为模具，用快速模塑法倒模获得PDMS微流控芯片。
SU-8 2000和3000系列光刻胶，根据粘度的不同，划分为以下型号。不同型号，厂家给出的匀胶厚度范围如下表。用户可根据所需旋涂的胶膜的厚度选取对应的型号，下表红色标记的型号是常用的型号。如需详细的产品使用说明书，可在“下载中心”查找。
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