型号: | SU-8 2025 |
产地: | 江苏 |
品牌: | |
评分: |
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美国Microchem SU-8 2000系列是高对比度、环氧型负性光刻胶,专门为微加工和微电子领域的应用而研发,可以满足较高的厚度以及对化学和热稳定性高的要求,多年来一直被 MEMS 制造商广泛使用。SU-8 2000采用了改进的配方,单次涂布工艺可实现0.5至>200um的胶膜厚度。SU-8光刻胶具有优异的成像特性,由于其在365-400nm波长范围内吸收度很低(推荐选用Cchip-0019型光刻机),胶层可以获得均匀一致的曝光量,因此能够加工近似垂直侧壁和高深宽比的厚膜结构。
在微流控芯片加工中,SU-8光刻胶主要用于软光刻工艺,在硅片上加工SU-8光刻胶结构作为模具,用快速模塑法倒模获得PDMS微流控芯片。
SU-8 2000和3000系列光刻胶,根据粘度的不同,划分为以下型号。不同型号,厂家给出的匀胶厚度范围如下表。用户可根据所需旋涂的胶膜的厚度选取对应的型号,下表红色标记的型号是常用的型号。如需详细的产品使用说明书,可在“下载中心”查找。
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