SENTECH 平行板式PECVD沉积系统-SI 500 PPD

SENTECH 平行板式PECVD沉积系统-SI 500 PPD

参考价：¥200万 - 300万
型号： SENTECH-SI 500 PPD
产地： 德国
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上海银雀电子科技发展有限公司
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SENTECH 平行板式PECVD沉积系统-SI 500 PPD

SENTECH仪器（德国）有限公司是国际主流的半导体设备商，研发、制造和销售先进的薄膜测量仪器（反射仪、椭偏仪、光谱椭偏仪）和等离子工艺设备（等离子刻蚀机、等离子沉积系统、用户定制系统）。

SI 500 PPD是电容平板式PECVD等离子沉积设备，主要用于SiO2，SiOxNy，SiNy，a-Si，SiC薄膜的沉积 。适用于2"--8" 样片的薄膜沉积。

图1、SI 500 PPD 设备外形图

系统配置：

• 电源13.56 MHz, 600 W
• 驱动电极集成了淋浴头和暗区屏蔽
• 6 MFC控制气路(SiH4, NH3, N2O, O2, Ar, CF4)
• 预真空锁loadlock， 带有取放机械手
• 高速率真空泵系统，独立气流压强控制
• 上电极和下电极分别加热，具备高的长期可靠性和工艺重复性
• 基底温度20oC至350oC
• 远程控制(RFC) 


上海银雀电子科技发展有限公司为您提供SENTECH 平行板式PECVD沉积系统-SI 500 PPDSENTECH-SI 500 PPD，nullSENTECH-SI 500 PPD产地为德国，属于进口物理气相沉积设备，除了SENTECH 平行板式PECVD沉积系统-SI 500 PPD的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供更多物理气相沉积设备,ASTchian客服电话，售前、售后均可联系。

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