反应性离子刻蚀系统RIE

反应性离子刻蚀系统RIE

参考价:面议
型号: customized-12
产地: 其他
品牌: 牛津仪器
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核心参数
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产品详情

可为多种材料提供各向异性干法刻蚀工艺

兼容200mm以下所有尺寸的晶圆,快速更换到不同尺寸的晶圆工艺

电极的适用温度范围宽,-150°C400°C

应用方向:

Ø III-V族材料刻蚀工艺

Ø 固体激光器 InP刻蚀

Ø VCSEL GaAs/AlGaAs刻蚀

Ø 射频器件低损伤 GaN刻蚀

Ø 类金刚石 DLC) 沉积

Ø 二氧化硅和石英刻蚀

用特殊配置的PlasmaPro FA设备进行失效分析的干法刻蚀解剖工艺,可处理封装好的芯片, 裸晶片,以及200mm晶圆用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀


深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供牛津仪器反应性离子刻蚀系统RIEcustomized-12,牛津仪器customized-12产地为其他,属于进口等离子体刻蚀设备,除了反应性离子刻蚀系统RIE的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多等离子体刻蚀设备,客服电话,售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期: 60天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

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