电容耦合等离子体刻蚀(CCP)设备

电容耦合等离子体刻蚀(CCP)设备

参考价:面议
型号: Haasrode® Avior® A
产地: 江苏
品牌: 鲁汶
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电容耦合等离子体刻蚀(CCP)设备

1. 产品概述:

CCP腔室适用于制造微纳结构的等离子刻蚀技术。在反应离子刻蚀过程中,等离子体中会包含大量的活性粒子,与表面原子产生化学反应,生成可挥发产物后,随真空抽气系统排出。鲁汶仪器的 Haasrode® Avior® A 在性价比和空间利用率上优点突出,可提供各种不同材料的刻蚀解决方案。

单腔室电容耦合等离子体(CCP)机适用于光刻胶残胶去除(打底膜)、介质刻蚀等工艺可用于6英寸及以下晶圆

2. 系统特性

单腔室电容耦合等离子体(CCP)机台

适用于光刻胶残胶去除(打底膜)、介质刻蚀等工艺

可用于6英寸及以下晶圆


深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供鲁汶电容耦合等离子体刻蚀(CCP)设备Haasrode® Avior® A,鲁汶Haasrode® Avior® A产地为江苏,属于等离子体刻蚀设备,除了电容耦合等离子体刻蚀(CCP)设备的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多等离子体刻蚀设备,客服电话,售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期: 60天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

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